全球资讯：荷兰正式官宣新消息！外媒：ASML，再见！

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(资料图片仅供参考)

芯片规则修改后，ASML就被限制出货，但ASML仍坚持出货部分设备。

三方协议签订后，美进一步限制ASML出货主流的DUV光刻机，荷兰表示仍能出货部分设备，可用于生产制造汽车芯片等产品。

6月底，荷兰正式官宣了，将限制部分型号的DUV光刻机出货。消息称，主要包含2000i及后续型号DUV光刻机，这些光刻机能够将芯片制程缩小至5nm。

荷兰限制出货后，这意味着ASML只能出货单次曝光精度38nm以上的光刻机，也就是1980i及之前的型号。

荷兰官宣这一消息后，就有外媒表示ASML，再见了，因为被进一步限制出货，将加速国内厂商放弃ASML的光刻机等设备。

首先，国内市场是ASML第三大市场，贡献营收一度超过14%，但随着美进一步修改规则，国内厂商持续减少ASML的光刻机，其在国内的市场份额已经下滑到8%。

如今，ASML被进一步限制出货，国内厂商必然会进一步降低对ASML光刻机的依赖。

因为ASML只能出货单次曝光精度38nm以上的光刻机，这些设备国内厂商大部分都能够量产，自然会选择国产设备。

更何况，ASML总裁都承认国产光刻机物美价廉，已经拿下国内八成市场，全球超40%的市场，如果ASML被进一步限制出货，ASML将会失去更多国内市场。

其次，国产先进光刻机已经取得了诸多突破，像28nm精度的光刻机已经取得技术验证，量产已经成为时间问题；

中科院已经突破更先进的EUV光源技术，并打造出来了原型机。

关键是，ASML今年将会在国内开放超200个岗位，覆盖光刻机、计算光刻和量测业务三大业务线，包括客户支持工程师、软件开发工程师及职能部门等。

ASML副总裁表示，半导体业要实现成功，必须通过通力合作，任何国家都不可能与他国脱钩并建立完全自主的产业链。并日本佳能作为例子。

一边是扩大岗位招聘，一边称不可完成自主产业链布局，ASML这样的行为，无疑是变相证明了国内在先进光刻机方面已经取得了巨大的突破。

李楠都公开表示未来12个月内，国内将会完成非美7nm全流程，这也再次说明，国内在芯片半导体方面取得的突破是巨大的。

最后，华为等联合国内厂商实现了诸多突破，像14nm以上EDA工具国产，自主研发的高斯数据库、MetaERP系统等。

数据显示，华为三年研发投资超4400亿元，2202年超过1600亿元，2023年将会更高，目的就是联合国内厂商加速突破，光刻机等问题必然会解决。

更何况，华为等国内厂商都在想法绕开ASML的光刻机技术，打造更先进的芯片。

据悉，华为正在研发堆叠技术、量子芯片、光电芯片等，这些芯片都能绕开或者降低对光刻机的依赖。

中芯国际已经了有自主研发的N+1、N+2等工艺，并且也进入小芯片领域，将其作为重点发展对象，国内其它厂商已经突破小芯片4nm技术。

也就是说，ASML被进一步限制，国内厂商不仅会降低购买数据，还将加速突破，用国产或其它先进技术替代，所以外媒才说ASML，再见了。

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