世界消息！光刻机最重要的核心技术被突破？怪不得ASML这么急

一个好消息，国产光刻机又有新的重大突破，一项关键的核心技术即将被解决，我们距离自己的EUV光刻机又近了一步。也怪不得ASML现在越来越着急了，我们所突破的光刻机技术越来越多，核心技术也有所进展，虽然目前对ASML的并没有多大威胁。

但随着时间流逝，ASML已经感觉到越来越沉重的压力了。

ASML的着急

(资料图)

前几年还在说就算给我们图纸也造不出来光刻机的ASML，今年却一反常态，对我们开始玩起了“倾销”。数据显示，今年第一季度，ASML向我们出口光刻机数量21台，占到其总销量的34%，我们也首次成为了ASML的最大出货市场。

过去，ASML向DL出货的光刻机数量总共也就50多台，可以说是相当“抠门”。结果今年光是第一季度就出货21台，这是想开了？不，无事献殷勤，必然是没安好心。

ASML向我们出售的都是老旧型号的DUV光刻机，要么是我们能造的，要么是我们很快就能造的那种。ASML选择这个时候出售，其实就是在变相打压国产光刻机。

除了向我们大量出售DUV光刻机之外，ASML还决定扩大国内的研发中心，计划增加200名研发人员，并还要建造维修中心。这个投资力度说大不大，但说小也不小，实际上就是想凭借自己的优势把国内的光刻机扼杀在摇篮中。

国产光刻机再突破，这次是透镜

虽然ASML试图在国内找回自己的地位，但是我们对此并不买单，毕竟上过的当已经好几回了。这一次，光刻机自主化势在必得，国内诸多大学和研究院都在为此而努力。并且，我们已经取得了很多的突破，相较于过去，国产光刻机早已今非昔比。

随着时间流失，DUV光刻机对我们而言将不再是挑战，接下了EUV光刻机才是我们攻克的重点。EUV光刻机是制造业的皇冠，集合了西方技术结晶，零件达到十万之多。目前，世界上也只有EUV光刻机。

我们要突破EUV光刻机，其三大核心就绕不过去，分别是光学系统、光学镜头和双工作台系统。

而这一次我们突破的正是光学系统的部分。来自港城大学电机工程系的蔡定平教授团队，在Science Advances发表了一篇名为《真空紫外非线性超构透镜》的文章，其中所记载的新型超构透镜，是我们突破光刻机又一大技术门槛的希望所在。

EUV光刻机的光源是极紫外光，所以其实际上叫做极紫外线光刻机。而蔡定平教授团队研发的新型真空紫外非线性超构透镜，能够产生和聚焦极紫外光，并能够将波长395nm转化为197nm 。聚焦光点的功率密度比超构透镜高了21倍。

据悉，这一突破能够应用于EUV光刻机之中，帮助国产光刻机突破技术瓶颈。并且，这一技术还属于EUV光刻机的核心技术，对实现EUV光刻机自主有重大意义。

总结

可以发现，虽然EUV光刻机号称制造业的皇冠，但其并不是完全不可突破。至少，我们已经突破了很多技术，其中还包括最核心的那部分。“只要功夫深，铁杵也能磨成针”，相信EUV光刻机自主早晚能够实现自主。

关键词： 核心技术 光学系统

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